一、光刻機簡介
光刻機是一種用于半導體制造中的關鍵設備,是通過光刻技術將電路圖案轉移到硅片上,其性能決定了了芯片的工藝水平,所以在半導體前道設備占有較高的市場份額。數據顯示,在2022年光刻設備價值量在整個半導體前道設備價值總量中占比為17%。
二、全球光刻機銷量情況
光刻機開發難度大,價值量高,市場主要有光刻設備有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大類。目前全球光刻機市場主還是以中低端產品為主,數據顯示,2022年KrF占比最高,為37.9%,其次是i-line,占比33.6%,這兩個產品占比較高,合計占比超過了70%。ArFi、ArF和EUV占比較少,占比分別為15.4%、5.8%、7.3%。
數據來源:觀研天下整理
三、光刻機市場情況
隨著下游消費電子、傳統工業等應用領域的快速發展,光刻機需求量也在不斷增長,2022年全球光刻機市場規模約為258.4億美元。具體從企業競爭來看,目前光刻機市場主要廠商為ASML、Nikon、Canon三家企業,而這三家企業也占據了全球光刻機市場的主要份額,市場呈現壟斷格局。數據顯示,在2022年ASML市場份額占比為82.1%,Canon市場份額占比10.2%,Nikon市場份額占比為7.7%,其中ASML占據全球光刻機主要市場。
數據來源:觀研天下整理
四、國外主要光刻機廠商
國外光刻機主要廠商有ASML、Nikon和Canon等企業,其中ASML擁有DUV&EUV、干式&浸沒式等全系列光刻設備,其光刻技術及產品均處于全球領先地位,在2023年ASML營業收入達到了275.59億歐元,歸母凈利潤為78.39億歐元,在 2023 年實現了 30% 的增長,毛利率為 51.3%,積壓訂單為 390億歐元。
國外主要光刻機廠商
公司簡稱 | 所屬國家 | 成立時間 | 光刻機相關業務情況 |
ASML | 荷蘭 | 1984年 | ASML擁有DUV&EUV、干式&浸沒式等全系列光刻設備,其光刻技術及產品均處于全球領先地位。 |
Nikon | 日本 | 1917年 | Nikon是全球三大光刻設備廠商之一,在i-line、KrF、ArF光刻機方面有較為全面的布局,其中,Nikon在高端浸沒式ArF光刻機方面僅次于ASML,分辨率可達≤38nm,具有較強的市場競爭能力。 |
Canon | 日本 | 1937年 | Canon的光刻機陣容包括i-line光刻機和KrF光刻機產品線,主要針對中低端市場,其FPA-6300ES6a型號可實現≤90nm分辨率。 |
資料來源:公開資料、觀研天下整理
從產品銷量來看,在2023年ASML光刻機銷售量排名第一,為為449臺,其中在ArFi、ArF、KrF銷量分別為125臺、32臺、184臺。其次是Canon,2023年Canon光刻機銷售總量為187臺,其中i-line光刻機銷售131臺,KrF光刻機銷售56臺。第三是Nikon,光刻機銷售總量為45臺,其中,浸沒式ArF光刻機銷售量為9臺,干式ArF光刻機銷售量為10臺,KrF、i-line光刻機銷售量分別為2臺、24臺。
2023年國外主要光刻機廠商產品銷量情況
公司簡稱 | 光刻機銷售量情況 |
ASML | 449臺 |
Nikon | 45臺 |
Canon | 187臺 |
資料來源:公開資料、觀研天下整理
五、國內主要光刻機廠商
目前國內光刻機相關企業主要有上海微電子、炬光科技、茂萊光學、晶方科技和福晶科技等,其中上海微電子是國內半導體前道光刻設備的主要企業,公司自成立以來多次承擔光刻機相關的國家重大科技專項,包括浸沒式光刻機、90nm光刻機等,所產的的光刻機可用于IC前道(SSX600)、先進封裝(SSB500)、LED&MEMS(SSB300)等領域。
我國光刻機行業相關企業情況
公司簡稱 | 成立時間 | 光刻機相關業務/主營業務 |
上海微電子 | 2002年 | 公司自成立以來多次承擔光刻機相關的國家重大科技專項,包括浸沒式光刻機、90nm光刻機等,所產的的光刻機可用于IC前道(SSX600)、先進封裝(SSB500)、LED&MEMS(SSB300)等領域。 |
炬光科技 | 2007年 | 公司的光場勻化器基于光場勻化核心技術,能夠實現對激光光束的高度勻化,以滿足光刻機等高端應用需求,產品應用于國內主要光刻機研發項目和樣機中,并供應給世界頂級光學公司,最終應用于全球高端光刻機生產商的核心設備。 |
茂萊光學 | 1999年 | 公司是國內領先的精密光學綜合解決方案提供商,專注于精密光學器件、光學鏡頭和光學系統的研發、設計、制造及銷售。根據公司資料顯示,目前公司已掌握“光刻機曝光物鏡超精密光學元件加工”核心技術,且已應用于國產光刻機中。 |
晶方科技 | 2005年 | 公司是專業的封測服務提供商,封裝產品包括圖像傳感器芯片、生物身份識別芯片、MEMS芯片等。根據公司資料顯示,在2019年,晶方科技完成對荷蘭Anteryon公司的并購,后者擁有混合鏡頭、晶圓級微型光學器件工藝技術設計及量產能力,全球光刻機龍頭ASML是其最主要客戶之一。 |
福晶科技 | 2001年 | 公司主要從事晶體元器件、精密光學元件和光器件等產品的研發、制造和銷售,是全球規模最大的LBO、BBO晶體及其元器件的生產企業,市場占有率全球第一,其中LBO晶體器件被國家工信部和中國工業經濟聯合會評為“制造業單項冠軍產品(2019年-2021年)。 |
科益虹源 | 2016年 | 2018年3月,科益虹源自主設計開發的國內首臺高能準分子激光器順利出貨,打破了國外廠商的長期壟斷,成為國內第一家、世界第三家具備193nm ArF準分子激光技術研究和產品化的公司。 |
華卓精科 | 2012年 | 公司業務核心為光刻機雙工作臺,與清華大學合作緊密,已經取得技術突破,并推出DWS系列產品。此外公司承擔多項“02專項”項目,積累了豐富的技術和專利,是上海微電子的雙工作臺供應商。 |
資料來源:公司資料、觀研天下整理(XD)
觀研天下®專注行業分析十一年,專業提供各行業涵蓋現狀解讀、競爭分析、前景研判、趨勢展望、策略建議等內容的研究報告。更多本行業研究詳見《中國光刻機行業發展深度研究與投資趨勢分析報告(2024-2031年)》。
【版權提示】觀研報告網倡導尊重與保護知識產權。未經許可,任何人不得復制、轉載、或以其他方式使用本網站的內容。如發現本站文章存在版權問題,煩請提供版權疑問、身份證明、版權證明、聯系方式等發郵件至kf@chinabaogao.com,我們將及時溝通與處理。